Китай запустил производство собственных инструментов для создания микросхем с использованием иммерсионного ультрафиолетового излучения

Июль 28th, 2026 admin

Китай запустил производство собственных инструментов для создания микросхем с использованием иммерсионного ультрафиолетового излучения
Производство DUV-оборудования возглавляет малоизвестная шанхайская компания Aishengna. Компания Aishengna объединила в свою команду специалистов из ведущих китайских стартапов в области литографии. Ограничения, введенные на Западе, могут привести к тому, что в случае ужесточения условий обслуживания за рубежом придется использовать местные инструменты.

Китай приступил к массовому производству разработанных внутри страны машин для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой (ДУФ) литографии. Это ключевой процесс в производстве современных микросхем, и данная инициатива имеет стратегическое значение для Пекина в контексте снижения зависимости от иностранных технологий.

Источник, пожелавший остаться анонимным, сообщил, что производство машин для ДУФ-литографии возглавляет малоизвестная китайская государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Для реализации проекта были привлечены команды из ведущих китайских стартапов в области литографии.

Этот шаг является частью общенациональной инициативы Пекина по обеспечению самообеспеченности в производстве полупроводников, что является одним из приоритетов президента Си Цзиньпина. Однако это не представляет прямой коммерческой угрозы для голландского производителя ASML, который долгое время контролировал данную технологию.

Технология DUV играет важную роль в производстве микросхем и ранее была эксклюзивной для компании ASML. Издание The Information первым сообщило о разработке Китаем этой технологии, отметив, что Shanghai Aishengna начала производство машин и планирует выпустить около пяти единиц в этом году и около 20 в 2027 году.

По словам источника, установки DUV компании Aishengna требуют дополнительных испытаний и пока не могут конкурировать с моделями голландской фирмы. Однако успешное внедрение этой технологии обеспечит китайским производителям микросхем альтернативный источник оборудования в случае ужесточения ограничений на экспорт или обслуживание зарубежных литографических систем со стороны западных правительств.

Как сообщает The Information со ссылкой на источники, китайские установки DUV будут поставлены ведущим китайским производителям микросхем, включая Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT), в этом году.

Иммерсионная ультрафиолетовая литография использует слой воды между проекционным объективом и кремниевой пластиной для печати более мелких схемных элементов по сравнению с традиционными системами сухого облучения. Эта технология применяется для производства широкого спектра микросхем и может быть использована для создания более совершенных полупроводниковых компонентов путем многократного нанесения рисунка и повторного облучения одного и того же слоя.

Компания ASML пока не прокомментировала ситуацию. Также не было комментариев от SMIC, Hua Hong и CXMT.

После публикации отчета The Information в понедельник акции ASML упали на 8%, а затем еще на 1,6% к 09:06 GMT. Это соответствует динамике других европейских компаний в секторе микросхем, но отстает от общеевропейского индекса STOXX 600.

Компания Aishengna была основана в августе 2023 года с уставным капиталом 7 миллиардов юаней (1 миллиард долларов США). Она поддерживается двумя государственными акционерами — Shanghai Electric Holding и Shanghai International Trust. Компания не имеет веб-сайта и не раскрывает публично свою деятельность.

Согласно корпоративным и кадровым документам, Aishengna и Yuliangsheng располагаются по одному адресу в Шанхае. Yuliangsheng начал тестирование прототипа DUV в прошлом году и является дочерней компанией литографического стартапа, поддерживаемого Huawei.

США запретили Китаю закупать передовые системы литографии в экстремальном ультрафиолетовом (EUV) диапазоне компании ASML. Голландский экспортный контроль также ограничил доступ Китая к некоторым передовым установкам DUV. Несмотря на стремление Пекина к самообеспечению, Китай остается важным источником дохода для ASML, на долю которого приходится около 16% чистой выручки голландского производителя в первом полугодии.

Китайским производителям микросхем запрещен доступ к передовым системам EUV, но они продолжают закупать менее совершенные установки DUV. В декабре агентство Reuters сообщило, что Китай разработал прототип системы EUV, но до начала серийного производства этой технологии еще несколько лет.

Аналитики JP Morgan Chase считают, что массовое производство небольшого количества установок для иммерсионной ультрафиолетовой литографии не окажет значительного влияния на прибыль ASML в среднесрочной перспективе. Они отмечают, что для крупномасштабного производства важны такие параметры, как выход годной продукции, точность совмещения, производительность и надежность при обработке тысяч пластин.

 

 

Источник.

 

Опубликовано в рубрике АНАЛИТИКА Метки: ,
«
»
Вы можете оставить комментарий, или ссылку на Ваш сайт.

Оставить комментарий